原子层沉积系统（ALD）系统是专为研发沉积先进薄膜而设计，可升级成等离子增 强原子层沉积系统（PEALD）。该系统可在各种衬底上沉积不同种类的薄膜。因为AL D是单原子层层层生长薄膜，所以相较于其他的薄膜沉积方法，ALD 可制备非常纯的薄 膜材料，并且能够精确控制薄膜的厚度和组分。同时沉积的薄膜与衬底具有非常陡直的界面和很好的保形性。